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夏菁菁

  • 教师英文名称: Jingjing Xia
  • 教师拼音名称: Xia Jingjing
  • 学历: 博士研究生毕业
  • 学位: 博士学位
  • 毕业院校: 同济大学
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Surface Morphology Evolution during Chemical Mechanical Polishing Based on Microscale Material Removal Modeling for Monocrystalline Silicon

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影响因子:3.748

所属单位:物理科学与工程学院

发表刊物:MATERIALS

刊物所在地:ST ALBAN-ANLAGE 66, CH-4052 BASEL, SWITZERLAND

关键字:chemical; chemical–mechanical polishing; mechanical polishing; monocrystalline silicon; power spectral density; removal mechanism; roughness

第一作者:夏菁菁

论文类型:期刊论文

卷号:15

期号:16

是否译文:

发表时间:2022-01-01

收录刊物:PUBMED、WOS、SCOPUS、EI、CNKI