浸没式光刻系统流场控制技术
1. 两相流致振动抑制
浸没式光刻系统中，浸没液体成为透镜的一部分，所以需要保证流场的均匀、稳定和纯净等指标。局部浸液的建立必须依赖以浸没头为核心的浸没系统，从而实现浸没流场的动态密封。借助浸没头中的注液和回收功能，局部浸没法不仅可以维持浸没流场的动态更新，还可以带走曝光产生的热量和污染物，保证流场的光学性质。然而，浸没流场的动态密封需要借助气刀实现气液两相回收，气液“对冲”界面的失稳将引发极为突出的两相流致振动问题(Flow-induced vibration，FIV)，从而影响双工件台的运动精度、硅片的平整度、以及浸没头的位姿调控，导致图像离焦、曝光线条堆叠和交错等缺陷，降低良品率。研究目标：毫牛量级两相流致振动抑制技术和物理机理探究。
2. 液体泄漏抑制
硅片高速步进扫描运动给浸没流场的密封和稳定带来了极大的技术挑战。浸没式光刻机动态曝光过程中，承片台相对于浸没头进行高加速移动，当曝光扫描速度达到临界速度以上时，引发后退弯月面破裂。气液界面破裂不仅会引起浸没液体的泄漏，造成水渍残留缺陷，还会引起局部流场的紊乱，导致光刻图案的畸变和模糊，降低产品良率。因此，在保证一定临界扫描速度的前提条件下，如何抑制浸没液体的泄漏，进而提高光刻良品率、降低生产成本，始终是浸没式光刻技术面临的核心挑战与亟待攻克的关键难题。
